產(chǎn)品中心
PRODUCTS CNTER當前位置:首頁產(chǎn)品中心分散機德國分散機GMD2000/4納米碳纖維粉碎分散機
SGN納米碳纖維粉碎分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
相關(guān)文章
ARTICLES納米碳纖維粉碎分散機,納米材料研磨分散機,高剪切研磨分散機,碳纖維研磨分散機,納米碳纖維高速研磨分散機,高剪切研磨分散機,SGN研磨分散機
SGN納米碳纖維粉碎分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
高速剪切研磨分散
設(shè)備可用于先進的納米材料的合成技術(shù),可以極大的提高納米納米材料的比表面積,使之具有更好的催化性能。這種創(chuàng)新性化學(xué)氣體凈化材料,不同于活性炭等常規(guī)氣體過濾材料,納米凈化材料應(yīng)用zui新的催化氧化技術(shù)和化學(xué)吸附技術(shù),能夠?qū)⑽廴疚?轉(zhuǎn)化成無害物質(zhì)。
高速剪切乳化設(shè)備用于增強、耐磨、導(dǎo)電等領(lǐng)域的瀝青基活性碳纖維產(chǎn)品的分散和破碎,這種材料可用于空氣凈化、水凈化、溶劑回收等環(huán)保領(lǐng)域的高效吸附材料。碳纖維具有高硬度,需要超高轉(zhuǎn)速的剪切乳化設(shè)備進行粒徑的重整。
上海思峻提供國內(nèi)目前轉(zhuǎn)速zui高的高速剪切乳化設(shè)備和錐體研磨設(shè)備,每分鐘轉(zhuǎn)速可達10000轉(zhuǎn)以上,同時剪切分散盤材質(zhì)采用陶瓷材料,可以*解決碳纖維等材料的破碎,長度縮小等功能。
上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
詢價和技術(shù)問題請來電:李 () 公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)。
GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
GMD2000選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
上海市嘉定區(qū)朱戴路900號
掃碼加微信
Copyright © 2024 上海思峻機械設(shè)備有限公司 版權(quán)所有 備案號:滬ICP備16026350號-7
技術(shù)支持:環(huán)保在線 管理登錄 sitemap.xml