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PRODUCTS CNTERGM2000系列阿莫西林混懸劑膠體磨的特點:①定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。②齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。③溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
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該懸浮液工藝要點在于使用的膠體磨的研磨性能,普通膠體磨轉速3000rpm,研磨出來的懸浮液顆粒較粗,靜置一段時間容易產生絮凝,影響藥效和使用,極大限制了新型阿莫西林混懸劑的推廣,上海思峻高剪切膠體磨GM2000系列轉速高達9000rpm,是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。 經過GM2000膠體磨研磨后的混懸液固體顆粒粒徑80%小于10UM,分布范圍極窄。
SGN膠體磨與國內膠體磨的性能比較:
一、轉速和剪切速率:
SGN膠體磨,可選擇德國機械密封,轉速可以達到15000轉
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
國內膠體磨,可選擇機械密封一般3000轉,大約在14293-215440 S-1
通過轉速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當于前者是后者的2-3倍
二、膠體磨頭和間距:
SGN膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實現多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,GM膠體模塊,GMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續粉液混合模塊。
間距可調,可實現1-10微米小粒徑材料加工
國內膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復性差
三、機械密封:
SGN膠體磨,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉
國內膠體磨,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
四、清洗:
SGN膠體磨,立式,皮帶驅動,易于維護,可有效保護馬達及齒輪箱,防止損壞,符合流體流動原理,具有GSP/SSP在線清洗,在線殺菌功能,無需拆卸,機器設計*,立式結構符合流體原理,清洗更簡便
國內膠體磨,臥式或立式(馬達一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護保養復雜,
通常情況,需要拆卸機器進行清洗
GM2000系列阿莫西林混懸劑膠體磨的特點:
①定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
②齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
高剪切膠體磨主要用途:
高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及乳狀液物質德粉碎、乳化、均質和混合,主要技術指標已達到國外同類產品的先進水平。
GM2000系列設備選型表:
型號 | 流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 線速度 m/s | 馬達功率 KW | 出/入口連接 |
GM2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GM2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GM2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
GM2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GM2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GM2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注:流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%
膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。
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