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產(chǎn)品中心分散機高速剪切分散機GMSD2000GMD2000/4 高新精細氧化鎂納米研磨分散機
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GMD2000/4 高新精細氧化鎂納米研磨分散機一、設備供應：高新精細氧化鎂納米研磨分散機,納米醫用級氧化鎂乳化機,氧化鎂納米研磨分散機,氧化鎂納米分散均質(zhì)設備
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ARTICLES一、設備供應：
高新精細氧化鎂納米研磨分散機,納米醫用級氧化鎂乳化機,氧化鎂納米研磨分散機,氧化鎂納米分散均質(zhì)設備
二、應用領(lǐng)域：
隨著(zhù)產(chǎn)業(yè)化升級及高新技術(shù)功能材料市場(chǎng)的需求和發(fā)展，研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細氧化鎂產(chǎn)品，主要用于高級潤滑油、高級鞣革提堿級、食品級、醫藥級、硅鋼級、高級電磁級、高純氧化鎂等近十個(gè)品種組成。
三、設備介說(shuō)明：
SGN德國納米醫用級氧化鎂研磨分散機在分散氧化鎂時(shí)通過(guò)14000rpm超高的轉速形成的*剪切力使物料在0.2-0.3mm極細的定轉子間隙中形成每分鐘數以 萬(wàn)次的撞擊、破碎、撕裂，將原本抱團的納米級氧化鎂進(jìn)一步的破碎，打開(kāi)團塊形成納米級顆粒狀，為防止被打碎的納米級氧化鎂顆粒再次抱團，我們在研 磨后又加了一級分散均質(zhì)盤(pán)，對物料進(jìn)行*的分散，阻止物料再進(jìn)行二次抱團。氧化鎂分散的越細越均一，對于后期做應用性能就越好！
GMD2000/4 高新精細氧化鎂納米研磨分散機
四、影響納米材料分散要素：
1、分散介質(zhì)
（1）根據粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹(shù)脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結構、極性、溶度參數等密切相關(guān)。
（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團有關(guān)。
（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。
3、分散設備
上海SGN（思峻）機械設備有限公司專(zhuān)門(mén)應對納米材料分散開(kāi)發(fā)的高剪切三級分散機GMD2000系列適合大規模地分散納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化鐵，納米氧化鉍，納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。
高新精細氧化鎂納米研磨分散機是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過(guò)程的設備的設備。
當其中一種或者多種材料的細度達到微米數量級時(shí)，甚至納米級時(shí)，體系可被認為均質(zhì)。當外部能量輸入時(shí)，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機由于轉子高速旋轉所產(chǎn)生的高切線(xiàn)速度和高頻機械效應帶來(lái)的強勁動(dòng)能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散均質(zhì)，經(jīng)過(guò)高頻管線(xiàn)式高剪切分散機的循環(huán)往復，得到穩定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
五、設備參數：
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線(xiàn)速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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